产品优势

机械优势

  • 封闭式光路

    光路对外完全隔绝,最大程度上保证整个光路的封闭性,对于防尘、防误操作起到关键作用,可在复杂工业环境中使用,同时也可提高整个光路的稳定性。

  • 模块化外壳

    嵌入式工业屏可实时观测样品制作过程,防紫外视窗可观测整个打印腔室内部情况,模块化外壳将光路室和打印室隔离,既保证了打印室操作的灵活性,又保证了整个光路室的密封性和稳定性,从而整体上提高了设备的使用寿命。

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  • 集成化控制系统

    去繁从简,一键式操作,便于操作和维修,在线式UPS可使设备断电后继续运行,并短信或邮件报警,可实时监控控制器运行情况并进行远程管理。

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材料优势

  • 适用于三维微纳制造的光敏材料产品特点

    最小特征尺寸可达56nm;

    高速微纳制造;

    优质的基材粘接性;

    卓越的机械性能;

  •  

    操作方便、加工工艺简单;

    无需掩模、旋涂或中烘;

    与我们的光刻设备和系统完美匹配。

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软件优势

  • 成像系统

    高分辨率工业相机配合成像系统,能够实时观察到样品制作情况;经过优化的操作方式,能够方便的实现位置的粗调、精调,以及样品局部的观察。

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    演示与向导

    软件内置多种Demo脚本和向导,用户可以在不编程的情况下进行基础结构的制作。同时,内置多种文件格式的支持,可以直接使用STL、PNG等常用格式文件。用户经过简单的学习与培训就能够熟练掌握,并完成三维光刻全过程。

  • 路径模拟器

    样本制作的过程会在路径模拟器上实时预览,可以观察样品的三维结构以及成型过程。

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    高精度自动对准、定位

    通过独创图像识别算法,实现对特定目标的检测,可以轻松实现自动定位、对接等操作。

  • 领域专用语言

    创新性软件环境秉承“少而精”的理念,语言的每一个特性都意味着使用效率的大幅提高,使用户可轻松使用,简单操作。软件支持嵌入式可编程脚本,拥有变量、循环、注释、交叉引用等重要特性。使得三维光刻过程自动化、简单化、高效化,从而完成高复杂度的重复结构制作。适用于工业领域中大量重复结构的制作以及科研领域中参数渐变性试验。

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