纳米级三维激光直写设备

        由魔技纳米自主研发的拥有独立知识产权的商用纳米级三维激光直写设备,能同时兼顾高精度和高自由度,实现在纳米级精度上三维结构的自由设计,具有高速度、超分辨、大范围、无限视场等技术优势

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主要技术参数

加工线宽:>100 nm

单结构成型尺寸:<300 μm*300 μm*300 μm

最大加工尺寸:30 mm*30 mm

最大加工高度:35 mm

重复定位精度:<10 nm

线性速度:<30 mm/s

设备额定功率:1.2 kW

表面平滑度Ra:<10 nm

自动界面跟踪误差:<50 nm

自动对焦误差:<50 nm

自动调平分辨率:<±20 urad

恒温控制精度:<±0.4 ℃

扩展特性:2.5维衍射光学元件高速算法加工、平面图案一次成型、大幅面自动成像、10轴飞行联动。