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纳米级三维激光直写设备

基于多光子聚合原理的超高加工效率的纳米级三维激光直写设备，采用模块化的光机电设计，可实现跨尺度宏微结合的精度微纳三维加工，满足工业级生产或科学研究设计建模的使用要求，在物微流控、微光学器件、光通信器件、超材料等领域有重要应用。


三维笼式细胞支架电子显微镜图


光纤传感电子显微镜图

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超快激光微纳加工中心

增减材结合的超快激光微纳加工中心,可实现光刻胶材料的三维增材以及金属、合金、玻璃等材料的打孔、表面结构处理、选择性激光消融、改性等功能。具有高精度、超高速度、长时稳定性、大幅面加工等特点，可广泛应用于微纳光学、生物工程、光子集成等行业领域。


埃菲尔铁塔电子显微镜图


金属钼蜂巢通孔显微镜图

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MN-UV-Smart

无掩膜激光直写设备

基于紫外光刻的无掩膜激光直写设备，用于晶圆级、2D/2.5D微纳结构加工。设备小巧紧凑型设计，无需掩膜版，具备高直写速度、高分辨率等特点。采用集成化设计，全自动控制，操作简便，适合实验室科研需求及快速加工、建模或小批量生产。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等研究领域。


衍射光学元件电子显微镜图


电路板显微镜图

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