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无掩膜直写光刻设备

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高性能无掩膜光刻设备

高性能无掩膜光刻设备


采用先进的超高速加工方式,搭配自研算法和高性能硬件,实现更高的对准、拼接和套刻精度。

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无掩膜直写光刻设备

智能型无掩膜光刻设备

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采用集成化设计和全自动控制,操作简便,适合快速加工、建模或小批量生产。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。

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